特許

J-GLOBAL ID：200903011475665268

処理液供給ノズルシステム

発明者： 川上 和志 ,  今井 俊典
出願人/特許権者： タツモ株式会社
代理人 (1件)： 板谷 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-243029
公開番号（公開出願番号）：特開平11-028412
出願日： 1997年09月08日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：

【要約】【課題】 処理液供給ノズルシステムにおいて、定量の処理液を短時間に吐出可能で、液量の管理が容易で、しかも、ワークに対するダメージを軽減でき、高品位な現像処理を可能とする。【解決手段】 ストレージタンク7には、開口74とこれを開閉する栓75とから成るノズル76が設けられ、栓75が開口74を開くと、タンク7内に貯溜された定量の現像液を栓75の外周面と開口74の内縁との間隙を通ってワーク上に滴下させる。これにより、短時間に比較的多量の現像液を吐出させることができ、現像液をワーク全体に短時間に広げることができる。

請求項（抜粋）：

ワークを保持するスピンドルチャックの上方に処理液を貯留するストレージタンクが配置され、このストレージタンクには、その下面に開けられた開口と、この開口を開閉する栓とから成るノズルが設けられ、前記ノズルは、栓が開口に対して昇降移動することにより開口を開き、タンク内に貯留された処理液を栓の外周面と開口内縁との間隙を通ってワーク上に滴下させるものであることを特徴とする処理液供給ノズルシステム。

IPC (5件)：

B05C 11/10 ,  B05C 5/00 ,  G03G 15/10 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (6件)：

B05C 11/10 ,  B05C 5/00 Z ,  G03G 15/10 ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/306 R

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 微粒子分散装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-171458   出願人：アルプス電気株式会社
• 塗装機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-118203   出願人：松下電器産業株式会社