特許

J-GLOBAL ID：200903011484967919

光学素子の洗浄方法および洗浄装置

発明者： 鈴木 博幸
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-321351
公開番号（公開出願番号）：特開2000-126704
出願日： 1998年10月28日
公開日（公表日）： 2000年05月09日
要約：

【要約】【課題】 溶剤等の使用量を減らし、かつ紫外領域の波長で使用する光学素子にも適用できる洗浄方法を提供する。【解決手段】 光学素子表面の材料に対して不活性なガスとオゾンとの混合ガスを、該光学素子表面を横切る方向に略平行または僅かに角度を持つ方向から導入し、同時に該光学素子表面から汚染物質を除去するには十分であるが、該光学素子表面の結晶構造は維持できる範囲内の高エネルギー光を該光学素子表面に照射する。

請求項（抜粋）：

光学素子表面の材料に対して不活性なガスとオゾンとの混合ガスを、該光学素子表面を横切る方向に略平行または僅かに角度を持つ方向から導入し、同時に該光学素子表面から汚染物質を除去するには十分であるが、該光学素子表面の結晶構造は維持できる範囲内の高エネルギー光を該光学素子表面に照射することを特徴とする光学素子洗浄方法。

IPC (2件)：

B08B 5/04 ,  G02B 1/10

FI (2件)：

B08B 5/04 ,  G02B 1/10 Z

Fターム (9件)：

2K009BB02 ,  2K009DD08 ,  2K009EE00 ,  3B116AA03 ,  3B116AB33 ,  3B116AB42 ,  3B116BB22 ,  3B116BB72 ,  3B116BC01