特許

J-GLOBAL ID：200903011488091104

アンダーコート樹脂組成物及びこれを用いたレジスト像の製造法

発明者： 粕谷 圭 ,  加藤 幸治
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 穂高 哲夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-370131
公開番号（公開出願番号）：特開2001-183843
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：

【要約】【課題】 マスクブランクスの表面の影響を打ち消し、ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物のパターンの断面形状を矩形に現出させることができるアンダーコート樹脂組成物及びレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 ポリ(ビニルメチルエーテル)樹脂及びフッ素系水溶性界面活性剤を含有するアンダーコート樹脂組成物。マスクブランクス上に上記のアンダーコート樹脂組成物の塗膜を形成し、この塗膜上にポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物の塗膜を形成し、次いで、このポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物の塗膜に活性化学線を照射し、現像するレジスト像の製造法。

請求項（抜粋）：

ポリ(ビニルメチルエーテル)樹脂及びフッ素系水溶性界面活性剤を含有することを特徴とするアンダーコート樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/11 503 ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 563

Fターム (22件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB08 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025DA14 ,  2H025DA18 ,  2H025DA35 ,  2H025FA17 ,  2H095BA07 ,  2H095BA08 ,  2H095BA10 ,  2H095BB01 ,  2H095BC01 ,  5F046HA07 ,  5F046JA22 ,  5F046LA18