特許
J-GLOBAL ID:200903011495845432
プラズマ処理装置のプラズマクリーニング方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
作田 康夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-042675
公開番号(公開出願番号):特開2002-246320
出願日: 2001年02月20日
公開日(公表日): 2002年08月30日
要約:
【要約】【課題】クリーニングによるプラズマ処理室内での重金属汚染を防止する。【解決手段】処理室内部に金属部品を有するプラズマ処理装置のクリーニング方法において、プラズマ処理中に発生し、金属部品の表面に付着した堆積膜をクリーニングによって除去する際に、該堆積膜の厚さ方向の一部を残して前記クリーニングを終了することにより、達成される。
請求項(抜粋):
処理室内部に金属部品を有するプラズマ処理装置のプラズマクリーニング方法において、プラズマ処理中に発生し、前記金属部品の表面に付着した堆積膜をプラズマクリーニングによって除去する際に、該堆積膜の厚さ方向の一部を残して前記プラズマクリーニングを終了することを特徴とするプラズマ処理装置のプラズマクリーニング方法。
IPC (4件):
H01L 21/205
, C23C 16/44
, C23F 4/00
, H01L 21/3065
FI (4件):
H01L 21/205
, C23C 16/44 J
, C23F 4/00 A
, H01L 21/302 E
Fターム (17件):
4K030DA06
, 4K030FA01
, 4K030KA30
, 4K030KA39
, 4K057DA01
, 4K057DB01
, 4K057DD01
, 4K057DJ07
, 4K057DJ10
, 4K057DM03
, 4K057DN10
, 5F004AA15
, 5F004CB10
, 5F004CB16
, 5F045AA08
, 5F045BB14
, 5F045EB06
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