特許

J-GLOBAL ID：200903011497093411

転写マスク、その製造方法及び投影露光方法

発明者： 河田 真太郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-277455
公開番号（公開出願番号）：特開2003-086496
出願日： 2001年09月13日
公開日（公表日）： 2003年03月20日
要約：

【要約】【課題】 電子線描画機へ大きな負担をかけずに、露光時のパターン像のつなぎ合わせ精度を向上させることができる転写マスク、その製造方法及び投影露光方法を提供することを目的とする。【解決手段】 パターンが形成された複数の小領域と、前記小領域に関する露光用アライメントマークとを有する転写マスクであって、 前記露光用アライメントマークが、前記小領域に前記パターンの描画を行う時に形成されることを特徴とする転写マスクとした。

請求項（抜粋）：

パターンが形成された複数の小領域と、前記小領域に関する露光用アライメントマークとを有する転写マスクであって、前記露光用アライメントマークが、前記小領域に前記パターンの描画を行う時に形成されることを特徴とする転写マスク。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504

FI (6件)：

G03F 1/08 M ,  G03F 1/16 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 523

Fターム (14件)：

2H095BA01 ,  2H095BA08 ,  2H095BE03 ,  2H095BE10 ,  2H097CA16 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046EB10 ,  5F046GD09 ,  5F056AA06 ,  5F056BD01 ,  5F056BD09 ,  5F056FA05 ,  5F056FA06