特許
J-GLOBAL ID:200903011500253948

レジスト塗布装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 敏明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-047039
公開番号(公開出願番号):特開平5-251389
出願日: 1992年03月04日
公開日(公表日): 1993年09月28日
要約:
【要約】【目的】 レジストの滞留によるゲル化や外部から大気やゴミの侵入を防止すると共に、滴下ノズルからのぼた落ちを確実に防いだレジスト塗布装置を提供する。【構成】 レジスト塗布装置において、レジスト貯蔵タンク1からフィルタ7、サックバック機構13、滴下ノズル10までのレジスト供給経路をフィルタ7、サックバック機構13、滴下ノズル10の順で配管し、前記フィルタ7を内蔵するカバー8、前記サックバック機構13のベローズ9および前記滴下ノズル10をテフロンで一体成形したものである。
請求項(抜粋):
レジスト貯蔵タンクからフィルタ、サックバック機構、滴下ノズルまでのレジスト供給経路をフィルタ、サックバック機構、滴下ノズルの順で配管し、前記フィルタを内蔵するカバー、前記サックバック機構のベローズおよび前記滴下ノズルをテフロンで一体成形したことを特徴とするレジスト塗布装置。
IPC (2件):
H01L 21/30 ,  B05C 11/08

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