特許

J-GLOBAL ID：200903011500792202

レジスト材料用酸発生剤

発明者： 浦野 文良 ,  中畑 正明 ,  藤江 啓利 ,  大野 圭二
出願人/特許権者： 和光純薬工業株式会社
代理人 (1件)： 平井 順二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-342117
公開番号（公開出願番号）：特開平10-213899
出願日： 1991年01月30日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：

【要約】【課題】遠紫外光、KrFエキシマ レーザ光等を光源とするフォトリソグラフ用レジスト材料に好適な酸発生剤の提供。【解決手段】一般式〔1〕【化1】(式中、R9は炭素数3〜10の分枝状又は環状のアルキル基を表わし、R10は炭素数1〜10の直鎖状、分枝状又は環状のアルキル基を表わす。)で示される化合物を含んでなる、レジスト材料用酸発生剤。

請求項（抜粋）：

一般式〔1〕【化1】(式中、R9は炭素数3〜10の分枝状又は環状のアルキル基を表わし、R10は炭素数1〜10の直鎖状、分枝状又は環状のアルキル基を表わす。)で示される化合物を含んでなる、レジスト材料用酸発生剤。

IPC (3件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-084648
  
• 特開平2-118655
  
• 特開平2-187764
  
• 特開平3-103854