特許
J-GLOBAL ID：200903011514746777
投影光学系及びそれを備えた露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-200494
公開番号（公開出願番号）：特開平8-064501
出願日： 1994年08月25日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【目的】 製造コストの低減を図ること。【構成】 マスク(100) の像をプレート(200) 上に形成する投影光学系は、光軸(Ax)とこの光軸と共軸な少なくとも一面の反射面(3) とを有する光学系(2,3) と、この光学系とマスクとの間の光路中に配置される第1光分割手段(PR1) と、光学系とプレートとの間の光路中に配置される第2光分割手段(PR2) とを有する。そして、第2光分割手段を介した光束を光軸を横切る方向に沿って移送して第1光分割手段へ導く。
請求項（抜粋）：
マスクの像を基板上に形成する投影光学系において、光軸及び該光軸に共軸な少なくとも一面の反射面を有する光学系と、該光学系と前記マスクとの間の光路中に配置される第1光分割手段と、前記光学系と前記基板との間の光路中に配置される第2光分割手段とを有し、該第2光分割手段を介した光束を前記光軸を横切る方向に沿って移送して前記第1光分割手段へ導くことを特徴とする投影光学系。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/72
, G03F 7/20 521
