特許
J-GLOBAL ID：200903011530768314
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-013483
公開番号（公開出願番号）：特開平6-223771
出願日： 1993年01月29日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：
【要約】【目的】 注入用イオン以外のイオンの混入のないイオン注入装置を提供する。【構成】 イオン生成チャンバ21をチャンバ本体23と蓋体24とで構成し、内部の空間27に面する内壁をタングステン製のライナー30,31で覆う。ライナー30は、蓋体24のツメ24Bに掛止する。タングステンは、仮にイオン化しても、P,B等のイオン種と質量分離部で質量分離できる。このため、ウェハに注入用イオン以外のイオンが注入されるのを防止できる。
請求項（抜粋）：
イオンを生成するイオン生成チャンバと、該イオン生成チャンバから引き出されたイオンを質量分離して注入用イオンを取り出す質量分離部とを備えるイオン注入装置において、イオンが通過する空間に面する部材表面を、イオン状態時に前記質量分離部で前記注入用イオンと分離可能となる物質で形成したことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, H01J 37/16
, H01L 21/265
