特許
J-GLOBAL ID：200903011532185596
レーザ光照射装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-000659
公開番号（公開出願番号）：特開平5-183216
出願日： 1992年01月07日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：
【要約】【目的】 レーザ光の蛇行がなく、被加工物に対するレーザ出力の変動が少ないレーザ光照射装置を得る。【構成】 チャンバ内及びチャンバの周囲の雰囲気と光学系の周囲の雰囲気とを遮断する断熱壁を設け、光学系の周囲の雰囲気を一定流量の層流状の空気流で満たし、また、被加工物表面へレーザ光が垂直入射しないように、レーザ光を走査する光学部品の配置を調整する。
請求項（抜粋）：
被加工物を設置する設置台と、該被加工物を加熱するよう該設置台の近傍に設けられた加熱手段と、該設置台と該加熱手段の周囲を覆うように設けられたチャンバと、該チャンバを隔てて、上記設置台及び該加熱手段と離れて配置されたレーザ発振器を有するレーザ光学系とを備えたレーザ光照射装置において、上記チャンバと上記光学系との間に断熱壁を設け、上記光学系の周囲の雰囲気を一定流量の層流状の空気流で満たしたことを特徴とするレーザ光照射装置。
IPC (5件)：
H01S 3/02
, B23K 26/08
, H01L 21/268
, H01S 3/00
, H01S 3/134
