特許
J-GLOBAL ID：200903011533647267
光学素子成形用金型の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-268708
公開番号（公開出願番号）：特開平8-133761
出願日： 1994年11月01日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：
【要約】【目的】 高精度な光学素子成形用金型を安価に提供することを目的とする。【構成】 機械強度と塑性加工性に優れた金型素材1aのプレス面2aを転写型3aの転写面4aによりプレス加工することにより、転写面4aの光学素子形状をプレス面2aに精密に転写させる。その後、金型素材1aの表面全体に、耐酸化性と高温強度に優れ、光学素子材料に対して不活性な貴金属系合金よりなる保護層6aを形成する。そして、この金型素材を用いて、光学素子材料を、加熱工程、プレス成形工程、冷却工程よりなる製造方法により光学素子を得る。
請求項（抜粋）：
所望の光学素子形状に精密に加工された転写型により、金型素材をプレス加工し、前記転写型の光学素子形状を前記金型素材表面に精密に転写させる工程と、前記金型素材の表面に白金(Pt)、パラジウム(Pd)、イリジウム(Ir)、ロジウム(Rh)、オスミウム(Os)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、タングステン(W)、タンタル(Ta)のうち、少なくとも一種類以上の金属を含む合金よりなる保護層を形成する工程からなることを特徴とする光学素子成形用金型の製造方法。
IPC (2件)：
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