特許
J-GLOBAL ID：200903011536625779
ウエハ処理方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-357260
公開番号（公開出願番号）：特開平5-175179
出願日： 1991年12月24日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：
【要約】【目的】 処理槽の内容積をできるだけ小さくし、製造コストおよび処理時間を低減するウエハ処理方法を提供する。【構成】 2つのキャリア3からそれぞれn枚のウエハ2を取り出して、第1のウエハ群21と第2のウエハ群22を形成し、第2のウエハ群22のウエハを第1のウエハ群21の各ウエハ2の隙間に挿入することによりピッチを変換して2n枚のウエハからなる第3のウエハ群23を形成し、これらを一括してウエハ処理する。
請求項（抜粋）：
(a)n枚のウエハを等ピッチでそれぞれ整立収納する2つのキャリアから当該ウエハを抜き出し、第1のウエハ群と第2のウエハ群とを形成する工程と、(b)第1のウエハ群のウエハ間の各隙間に第2のウエハ群の各ウエハを相互に接触しない状態で挿入し、2n枚のウエハからなる第3のウエハ群を形成する工程と、(c)第3のウエハ群を一括して処理槽内の処理液に浸漬させ表面処理する工程と、を備えるウエハ処理方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, G02F 1/136 500
, H01L 21/027
, H01L 21/68
