特許

J-GLOBAL ID：200903011540618868

ネガ型レジスト組成物

発明者： 高橋 表 ,  阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-141688
公開番号（公開出願番号）：特開2003-330191
出願日： 2002年05月16日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：

【要約】【課題】 活性光線や放射線の使用に対して孤立性能に優れた化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸により架橋する架橋剤、及び(C)2種の特定構造繰り返し単位を構成成分として有するアルカリ可溶性樹脂、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸により架橋する架橋剤、及び(C)一般式(I)で表される繰り返し単位と、一般式(II)で表される繰り返し単位とを構成成分として有するアルカリ可溶性樹脂、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。【化1】式(I)中、R1は水素原子、ハロゲン原子あるいはアルキル基を表し、L1は二価の連結基を表し、Rは電子供与性基を表し、nは1〜3の整数を表す。nが2以上の場合、複数のRは同じでも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成してもよい。但し、ベンゼン環上の水酸基に対する2つのオルト位の置換基の一方が水素原子であり、他方がRである。【化2】式(II)中、R2は水素原子、ハロゲン原子あるいはアルキル基を表し、L2は二価の連結基を表し、Mは、未露光部において、一般式(II)からなるホモポリマーが、ポリ(4-ヒドロキシスチレン)よりもアルカリ溶解性を抑制しうる基を表す。

IPC (2件)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/038 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17