特許
J-GLOBAL ID：200903011541757179
レーザ加工装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-235949
公開番号（公開出願番号）：特開平6-079488
出願日： 1992年09月03日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：
【要約】【目的】 マスク像の転写比率を容易にかつ正確に変更することのできるレーザ加工装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明は、レーザ発振器(10)から発せられたレーザ光を転写マスク(11)に照射し、転写マスクのマスク像を加工物(16)に投影するレーザ加工装置において、転写マスクと加工物との間に第1のマスク転写レンズ(12)及び第2のマスク転写レンズ(14)を配置すると共に、転写マスクと第1のマスク転写レンズとの間の間隔を第1のマスク転写レンズの焦点距離とし、第2のマスク転写レンズと加工物との間の間隔を第2のマスク転写レンズの焦点距離としたことを特徴とする。かかる位置関係においては、転写比率は第1及び第2のレンズの焦点距離の比となる。また、転写比率を変更する場合、第1のレンズの焦点距離を変更すると共に、第1のレンズと転写マスク間の間隔を当該焦点距離と一致させるだけで良い。
請求項（抜粋）：
レーザ発振器から発せられたレーザ光を転写マスクに照射し、該転写マスクのマスク像を加工物に投影して該加工物を加工するレーザ加工装置において、前記転写マスクと前記加工物との間に第1のマスク転写レンズ及び第2のマスク転写レンズを配置し、前記転写マスクと前記第1のマスク転写レンズとの間の間隔を該第1のマスク転写レンズの焦点距離とし、前記第2のマスク転写レンズと前記加工物との間の間隔を該第2のマスク転写レンズの焦点距離としたことを特徴とするレーザ加工装置。
IPC (3件)：
B23K 26/06
, B23K 26/00 320
, B23K 26/00 330
