特許
J-GLOBAL ID：200903011550496477
プラズマCVD装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-195726
公開番号（公開出願番号）：特開平6-041757
出願日： 1992年07月23日
公開日（公表日）： 1994年02月15日
要約：
【要約】【目的】 容易に清掃作業が行えるプラズマCVD装置を提供する。【構成】 反応室1内にゲート3を介して搬入搬出自在なキャリア台車11に、反応室1に配設されたRF電極5に対向して配置され基板16を取付け可能なアース電極14と、前記基板16を加熱する加熱ヒーター15と、この加熱ヒーター15に接続される可動側ヒーター接続端子17とを設け、反応室1内のキャリア台車搬入位置に対応して配置されキャリア台車11の搬入出移動により前記可動側ヒーター接続端子17が接続離脱可能な固定側ヒーター接続端子20を設けた。【効果】 キャリア台車の搬入出作業に伴って自動的に加熱ヒーターの接続端子を接続でき、作業性が向上できる。
請求項（抜粋）：
反応室内にゲートを介して搬入搬出自在なキャリアに、反応室に配設された高周波電極に対向して配置され基板を取付け可能なアース電極と、前記基板を加熱する加熱ヒーターと、この加熱ヒーターに接続される可動側ヒーター接続端子とを設け、反応室内のキャリア搬入位置に対応して配置されキャリアの搬入出移動により前記可動側ヒーター接続端子が接続離脱可能な固定側ヒーター接続端子を設けたことを特徴とするプラズマCVD装置。
IPC (2件)：
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