特許
J-GLOBAL ID：200903011550789938
位置ずれ検査マーク及びフォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大澤 斌 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-019584
公開番号（公開出願番号）：特開2003-224049
出願日： 2002年01月29日
公開日（公表日）： 2003年08月08日
要約：
【要約】【課題】 露光装置の光学系の収差及びフォトマスクの回路パターンの微細さに影響されず、正確な位置合わせができる位置ずれ検査マークを提供する。【解決手段】 前工程で使用するフォトマスクのフォトパターンに設けられた第1の位置ずれ検査マークの基準マーク42は、正方形の各辺に対称的に配置された辺パターン46で構成され、各辺パターン46は、3本の帯状パターン48A〜Cを相互に離隔して平行に配置したパターンとして形成されていて、しかも両側の帯状パターン48A、Cは、対向するスクライブ領域にある辺パターン46の露光の際に、同時に露光され、結果的に消失して、帯状パターン48Bだけが残る。帯状パターン48のパターン幅は0.2μm程度、辺パターン46の長さは20〜30μmである。後工程で使用するフォトマスクのフォトパターンにも、第1の位置ずれ検査マークとほぼ同じような基準マークを有する第2の位置ずれ検査マークが設けられている。
請求項（抜粋）：
逐次移動方式(ステップ・アンド・リピート方式)の露光方法によりフォトマスクのマスクパターンを被露光体上に転写するに当たり、前工程で被露光体上に形成されているパターンと、前記前工程に続く後工程で前記被露光体上に転写するフォトマスクのマスクパターンとの重ね合わせの際の位置合わせ及び位置ずれ検査に使用する位置ずれ検査マークにおいて、前記前工程で使用するフォトマスクのマスクパターンに設けられている第1の位置ずれ検査マークは、スクライブ領域に形成された少なくとも2個の第1の基準マークと、前記スクライブ領域で囲まれた実素子領域の中心線に関して前記第1の基準マークと対称な位置のスクライブ領域に設けられた第1の重ねマークとを有し、前記第1の基準マークは、3本以上の帯状パターンを相互に離隔、配列してなる集合を第1の所定輪郭上に配置して構成され、前記第1の重ねマークは、前記第1の基準マーク上に重ねたとき、前記第1の基準マークの帯状パターンの集合のうち、両側の少なくとも1本の帯状パターンをそれぞれ露出し、前記両側の帯状パターン以外の中央の帯状パターンを覆うパターンとして構成されていることを特徴とする位置ずれ検査マーク。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F 1/08 N
, H01L 21/30 525 X
, H01L 21/30 522 B
, H01L 21/30 525 W
2H095BE03
, 2H095BE08
, 2H095BE09
, 5F046AA25
, 5F046CB17
, 5F046EA03
, 5F046EA04
, 5F046EA09
, 5F046EB01
, 5F046EB02
, 5F046EB07
, 5F046ED03
, 5F046FC04
, 5F046FC05
