特許

J-GLOBAL ID：200903011552987850

重合体の仕上法

発明者： ジャニス・エレイン・ソーンダーズ ,  ジョージ・ノリス・フォスター ,  エドガー・チャプマン・ベイカー ,  ロバート・ジョゼフ・バーニエ
出願人/特許権者： ユニオン・カーバイド・ケミカルズ・アンド・プラスティックス・テクノロジー・コーポレイション
代理人 (1件)： 倉内 基弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-346994
公開番号（公開出願番号）：特開平6-234808
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 活性触媒残留物を含有する重合体の仕上法を提供する。【構成】 (i)1種以上のエチレン式不飽和単量体、遷移金属触媒系を1つ以上の反応帯域に導入し、(ii)反応帯域を重合体の粘着温度よりも下の温度で且つ本質上酸素を含まない雰囲気に維持し、(iii )反応帯域に、(a)2,6-ジ-t-ブチル-4-アルキルフェノール及び/又は3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオン酸アルキル若しくはそれらの錯体及び(b)酸化亜鉛、マグネシウム、アルミニウム及び/又は亜鉛陽イオンを含有するハイドロタルク石、又はナトリウム、カルシウム、マグネシウム及び/又は亜鉛陽イオンを含有するゼオライトを導入し、(iv)反応帯域から重合体を回収して重合体を1つ以上の後反応乾式混合帯域に送り、(v)重合体に水を接触させ、(vi)後反応帯域に1種以上の触媒失活剤化合物を導入し、そして(vii )後反応帯域に1種以上の熱及び/又は光酸化安定剤を導入する、各工程から構成する。

請求項（抜粋）：

次の工程、(i)1種以上のエチレン式不飽和単量体、遷移金属触媒系及び随意成分としての水素を1つ以上の反応帯域に、約10重量%以下の結晶化度を有する重合体が生成されるような量で且つ重合条件下に導入し、(ii)反応帯域を重合体の粘着温度よりも下の温度で且つ本質上酸素を含まない雰囲気に維持し、(iii )反応帯域に、(a)2,6-ジ-t-ブチル-4-アルキルフェノール及び/又は3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオン酸アルキル(ここで、アルキル基は1〜20個の炭素原子を有し、そして直鎖又は分岐鎖である)若しくはそれらの錯体及び(b)酸化亜鉛、マグネシウム、アルミニウム及び/又は亜鉛陽イオンを含有するハイドロタルク石、又はナトリウム、カルシウム、マグネシウム及び/又は亜鉛陽イオンを含有するゼオライトを、重合体を安定化し且つ後反応帯域で形成される酸を中和するのに十分な量で導入し、(iv)反応帯域から重合体を回収して重合体を1つ以上の後反応乾式混合帯域に送り、この場合に該帯域を重合体の粘着温度よりも下の温度で且つ本質上酸素を含まない雰囲気に維持し、(v)重合体に水を、すべての触媒残留物を加水分解し且つ錯化したフェノール系化合物を遊離させるのに十分な量で接触させ、(vi)後反応帯域に1種以上の触媒失活剤化合物を、遷移金属触媒系の加水分解残留物を本質上失活させるのに十分な量で導入し、そして(vii )後反応帯域に1種以上の熱及び/又は光酸化安定剤を、重合体の熱及び光酸化を実質上防止するのに十分な量で導入する、各工程からなる活性触媒残留物を含有する重合体の仕上法。