特許

J-GLOBAL ID：200903011577872799

感光性組成物

発明者： 親里 直彦 ,  大西 廉伸 ,  仁木 博一 ,  早瀬 留美子 ,  小林 嘉仁
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-287820
公開番号（公開出願番号）：特開平5-127386
出願日： 1991年11月01日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【目的】本発明は、感光性組成物に関し、特にKrFエキシマレーザでの露光に使用される感光性組成物の感度及び解像性の向上を目的とする。【構成】フェノール骨格を有し水素添加されたアルカリ可溶性重合体の前記フェノール骨格における水酸基に、酸に対して不安定な溶解抑止基が結合してなる重合体と、光照射により酸を発生する化合物と、更に水素添加されたアルカリ可溶性重合体とを含有することを特徴とする。【効果】deepUV及び電離放射線、特にKrFエキシマレーザの波長領域に対して透明性の高いレジスト膜を形成することができ、高感度であり、且つ高解像度のレジストパターンを作製できる。

請求項（抜粋）：

フェノール骨格を有し水素添加されたアルカリ可溶性重合体の前記フェノール骨格における水酸基に、酸に対して不安定な溶解抑止基が結合してなる重合体と、光照射により酸を発生する化合物とを含有する感光性組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027