特許
J-GLOBAL ID：200903011592085477
基板露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梶山 佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-121870
公開番号（公開出願番号）：特開平6-291012
出願日： 1993年04月01日
公開日（公表日）： 1994年10月18日
要約：
【要約】【目的】 液晶基板等の比較的平面度の悪い被露光基板に対してより均一な平行出しを行うことができる基板露光装置を提供することを目的とする。【構成】 被露光基板の周囲に平均的に分散する3点以上の点でマスクと被露光基板とのギャップを測定し、マスクを基準とした被露光基板の回帰平面(仮想平面)を平面方程式から求め、この平面方程式において各チルト機構の位置における前記マスクとのギャップを算出し、目標ギャップと各チルト機構の算出されたギャップと差分だけ各チルト機構を駆動するものである。
請求項（抜粋）：
3箇所以上に設けられ被露光基板をベースに対して傾斜させるチルト機構を有する被露光基板載置台と、この被露光基板載置台から所定の距離離れて配置されたマスクと、前記被露光基板の周囲に平均的に分散する3点以上の点で前記マスクと前記被露光基板とのギャップを測定するギャップ測定器とを備え、前記マスクを基準とした前記被露光基板の回帰平面(仮想平面)を平面方程式から求め、この平面方程式において各前記チルト機構の位置における前記マスクと前記被露光基板とのギャップを算出し、目標ギャップと各前記チルト機構の算出されたギャップと差分だけ各前記チルト機構を駆動することを特徴とする基板露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
