特許
J-GLOBAL ID:200903011594733921

電子デバイス検査システム及び電子デバイスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-021712
公開番号(公開出願番号):特開平11-219997
出願日: 1998年02月03日
公開日(公表日): 1999年08月10日
要約:
【要約】【課題】本発明の目的は、製造ラインの歩留まりを大幅に低下させることなく検査時間を短縮することにある。【解決手段】本発明は、電子デバイスの製造ラインにおいてウエハ上の限定された領域を一貫して検査することにより検査時間を短縮することとした。特に、300φ等の大口径化したウエハに対しては、ウエハ面内の均一性に欠け、ウエハ周辺とウエハ中心とで検出される検査データの価値が異なるため、ウエハの周辺領域をその内周に比べてより詳細に検査することで検査結果の信頼性を高めることとした。また、ウエハ毎に検査する領域をあらかじめデータベース等に登録しておき、各検査装置は検査時に検査する領域をデータベースからダウンロードして検査するようにした。すなわち、製品の品種や製品の製造状況等に応じて、より好ましい検査領域が設定しやすいように電子デバイス管理システムにおいて各検査装置でのウエハ上の検査領域を管理するようにした。
請求項(抜粋):
電子デバイスとなるワークを検査する複数の検査装置と、該複数の検査装置とネットワークを介して接続され、該検査装置が検査するワーク内の検査領域を表した検査領域情報を記憶する記憶手段を少なくとも有する解析ユニットとを備え、該解析ユニットが記憶する検査領域情報を該検査装置へ送信して該検査装置が検査する検査領域を設定することを特徴とする電子デバイス検査システム。

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