特許
J-GLOBAL ID：200903011603793088
ダイオキシン類含有ガスの処理方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
岡澤 英世 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-204337
公開番号（公開出願番号）：特開2001-029743
出願日： 1999年07月19日
公開日（公表日）： 2001年02月06日
要約：
【要約】【課題】 ダイオキシン類含有ガスと水との接触時間が長くなるように工夫することにより、ダイオキシン類を効率良く除去することを可能にする。【解決手段】 ダイオキシン類を含有する排ガス1を水と接触させて急冷し、これによりダイオキシン類を水の中に含有させて除去するようにしたダイオキシン類含有ガスの処理方法又は装置において、上記排ガス1をシャワーリングタワー2に通し、その通路断面で見て、内周面の複数の散水ノズル4より、その散水方向が周方向であって該内周面から中心側に所定の内寄せ角度αだけ離れる方向となり、且つ、通路断面より下方に所定の降下角度βだけ傾けた方向となるように、水を散水し、これにより排ガス1を渦巻き状に誘導して、排ガスと水との接触時間を長くする。
請求項（抜粋）：
ダイオキシン類を含有する排ガスを水と接触させて急冷し、これによりダイオキシン類を水の中に含有させて除去するようにしたダイオキシン類含有ガスの処理方法において、前記排ガスをシャワーリングタワーに通し、その通路断面で見て、内周面の複数の散水箇所より、その散水方向が周方向であって該内周面から中心側に所定の内寄せ角度(α)だけ離れる方向となるように水を散水し、これにより排ガスを渦巻き状に誘導して、排ガスと水との接触時間を長くしたことを特徴とするダイオキシン類含有ガスの処理方法。
IPC (2件)：
B01D 53/70
, B01D 53/34 ZAB
B01D 53/34 134 E
, B01D 53/34 ZAB
4D002AA21
, 4D002AC04
, 4D002BA02
, 4D002BA03
, 4D002BA04
, 4D002BA13
, 4D002BA14
, 4D002BA16
, 4D002CA01
, 4D002DA35
, 4D002DA41
, 4D002GA01
, 4D002GA02
, 4D002GA03
, 4D002GB02
, 4D002GB03
, 4D002GB06
, 4D002GB20
, 4D002HA03
, 4D002HA07
