特許
J-GLOBAL ID:200903011608379700
アンチエイリアス描画装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
森本 義弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-109850
公開番号(公開出願番号):特開2003-303349
出願日: 2002年04月12日
公開日(公表日): 2003年10月24日
要約:
【要約】【課題】 アンチエイリアス描画装置において、アンチエイリアス処理を効率的に行うことができるようにする。【解決手段】 複数の描画領域と、同一図形に対して各描画領域ごとに異なるオフセットを与えて描画を行う複数のグラフィック描画プロセッサと、各描画領域に描画された図形を合成するブレンド手段とを備えた。これにより、各描画プロセッサの負荷を均等にすることができ、効率的な描画が可能になる。
請求項(抜粋):
複数の描画領域と、同一図形に対して各描画領域ごとに異なるオフセットを与えて描画を行う複数のグラフィック描画プロセッサと、各描画領域に描画された図形を合成するブレンド手段と、を備えることを特徴とするアンチエイリアス描画装置。
IPC (3件):
G06T 11/20 110
, G06T 1/20
, G06T 3/00 300
FI (3件):
G06T 11/20 110 K
, G06T 1/20 B
, G06T 3/00 300
Fターム (16件):
5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA17
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CB16
, 5B057CC04
, 5B057CE08
, 5B057CE11
, 5B057CF05
, 5B057CH02
, 5B057CH08
, 5B057CH11
, 5B080CA03
, 5B080FA08
, 5B080FA14
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