特許

J-GLOBAL ID：200903011629017531

現像処理方法

発明者： 北村 哲也
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-176929
公開番号（公開出願番号）：特開2002-367899
出願日： 2001年06月12日
公開日（公表日）： 2002年12月20日
要約：

【要約】【課題】 ウェハの中心部と外縁部に形成される回路パターンの線幅を均一にする。【解決手段】 現像液吐出ノズル80が,現像液を吐出しながらウェハW上を移動し,ウェハWに現像液を供給する現像処理において,現像液吐出ノズル80が位置P2から位置P3に移動するステップ3におけるウェハWの回転速度を操作する。ステップS3の回転速度は,予め行った実験結果に基づきウェハWの外縁部に形成される線幅が中心部と同じになるような速度に操作する。この操作により,ウェハW外縁部の現像進度が調節され,ウェハW面内に均一な線幅の回路パターンが形成される。

請求項（抜粋）：

回転している基板に現像液を供給して,基板を現像処理する現像処理方法であって,前記基板の回転速度を操作することによって,前記基板の外縁部における現像進度を調節することを特徴とする,現像処理方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502

FI (2件)：

G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 F

Fターム (4件)：

2H096AA25 ,  2H096GA30 ,  5F046LA05 ,  5F046LA14