特許

J-GLOBAL ID：200903011642812235

磁気処理装置

発明者： 恩田 多賀雄
出願人/特許権者： 出戸水栓株式会社
代理人 (1件)： 恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-256208
公開番号（公開出願番号）：特開2002-066564
出願日： 2000年08月25日
公開日（公表日）： 2002年03月05日
要約：

【要約】【課題】 取付面への固定が容易で、なおかつ管体に対して移動するおそれのない磁気処理装置を提供する。【解決手段】 磁気処理装置10は、配管1の外側に装着されて同配管1内を流通する水に磁界を作用させる本体11に、同本体11を壁や床等の取付面2に固定するための台座12が設けられてなる。本体11のハウジング15内には、配管1の周囲に配設されて同配管1の径方向に沿って変位しうる一対のスライダ18が収容されている。各スライダ18には、断面台形状の凹面として形成された受け面21があり、両スライダ18の受け面21によって配管1が挟持される。

請求項（抜粋）：

管体の外側に装着されて同管体内を流通する流体に磁界を作用させる本体に、同本体を取付面に固定するための台座を設けたことを特徴とする磁気処理装置。

IPC (2件)：

C02F 1/48 ,  C02F 5/00 610

FI (2件)：

C02F 1/48 A ,  C02F 5/00 610 A

Fターム (7件)：

4D061DA03 ,  4D061DB05 ,  4D061DB06 ,  4D061EA18 ,  4D061EC01 ,  4D061EC06 ,  4D061EC19

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 磁気式流体処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-152246   出願人：鹿嶋俊之