特許
J-GLOBAL ID：200903011655235563
表面処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-198688
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045626
出願日： 1986年01月29日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：
【要約】【構成】複数個の原料容器303、305それぞれから気化手段312、313へ、液体ソースの供給量をそれぞれ制御して液体ソースを供給し、気化手段で液体ソースを気化させて、反応容器301壁面の温度よりも高い温度の基体308上に、膜を形成する。【効果】制御性良く膜を形成でき、かつ組成が均一な膜が得られる。
請求項（抜粋）：
反応容器と、前記反応容器と連通可能に接続された気化手段と、前記反応容器の外に設けられ、かつ前記気化手段の内部に液体ソースを供給する複数個の原料容器とを備えた表面処理装置を用い、それぞれの前記原料容器から気化手段へ前記気化されるべき液体ソースの供給量をそれぞれ制御して前記液体ソースを供給する工程と、前記気化手段で前記供給された液体ソースを気化する工程と、前記反応容器壁面の温度よりも高い温度の基体上に、前記気化したソースにより膜を形成する工程とを有することを特徴とする表面処理方法。
IPC (6件)：
H01L 21/205
, C23C 14/24
, C23C 16/44
, C30B 25/16
, H01L 21/203
, C30B 23/08
H01L 21/205
, C23C 14/24 D
, C23C 16/44 C
, C30B 25/16
, H01L 21/203 M
, C30B 23/08 M
