特許

J-GLOBAL ID：200903011658067530

薄膜パタ-ン形成方法及び有機ELディスプレイの製造方法

発明者： 藤井 祐行
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 目次 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-370800
公開番号（公開出願番号）：特開2000-192231
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：

【要約】【課題】 昇華性の有機材料等からなる薄膜パターンを、良好な解像度で、簡易にかつ効率的に形成することができる薄膜パターン形成方法を得る。【解決手段】 第1の基板1上に金属薄膜2の1次パターンを形成し、この上に連続薄膜3を形成し、1次パターンの金属薄膜2と第1の基板1との界面に光ビーム5aを照射して、表面プラズモン共鳴を励起させ、金属薄膜2上の連続薄膜の薄膜材料を昇華させ、昇華した薄膜材料を第2の基板11上に堆積させることにより、金属薄膜2の1次パターンに対応した薄膜3の2次パターンを第2の基板11上に形成することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

第1の基板上に形成した薄膜の所定領域において表面プラズモン共鳴を励起させて薄膜材料を昇華させることにより、第1の基板に対向させて配置した第2の基板上に前記所定領域に対応した薄膜パターンを形成することを特徴とする薄膜パターン形成方法。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (3件)：

C23C 14/24 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (17件)：

3K007AB04 ,  3K007AB15 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007FA03 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA03 ,  4K029DB12 ,  4K029DB20