特許

J-GLOBAL ID：200903011658631176

小型デバイス

発明者： レイモン・ヴィルーミエ
出願人/特許権者： セー エス ウー エム・サントル・スイス・デレクトロニク・エ・ドゥ・ミクロテクニク・エス アー・ルシェルシュ・エ・デヴェロプマン
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-355400
公開番号（公開出願番号）：特開平9-198983
出願日： 1996年12月24日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】 フォトリソグラフィまたは同様な技法を使用して基板に対してマイクロ加工を施すことによって得られる小型リレーを提供する。【解決手段】 可動接点(26)が、基板(1)から張り出すようにして取り付けられた弾性レバー(19)によって支持される。レバー(19)は、揺動部材を形成し、変形可能な接続部によって基板(1)に取り付けられる。レバーの各自由端部に、磁気回路の電機子(20、21)が設けられ、磁気回路は、それ自体によって生成される、レバー(19)の弾性変形によって生成される力とは反対の磁力を用いて電機子を接触させることができる座を画定する。

請求項（抜粋）：

所定の機能を実行する小型デバイスであり、このデバイスが、フォトリソグラフィ、または特に小型マイクロリレーを製造するための同様な技法、あるいはそれらの両方を使用して基板(1)に対してマイクロ加工を施すことによって得られ、磁気回路を形成する手段(6a、6b、12a、12b、13a、13b、20、21、44、45、68、69、70、79)と、少なくとも1つの励磁コイル(10a、10b、11a、11b、71、72)と、前記磁気回路の作用下で前記機能を実行する手段(25、26、27、29、31ないし34、46ないし51、74ないし77、CR)とを備え、すべてのこれらの要素が、集積回路を製造するために使用される工程と同様な集積工程によって前記基板(1)上に得られ、前記機能を実行する前記手段が、前記基板(1)から張り出すように前記基板(1)に取り付けられた弾性変形可能なレバー(19、35、67)によって少なくとも部分的に支持され、前記レバー(19、35、67)が、揺動部材を形成し、レバーのほぼ中央部が、変形可能な接続部(17、18、65、66)によって基板に取り付けられ、前記レバー(19、35、67)の各自由端部に、磁気回路(6a、6b、12a、12b、13a、13b、20、21、44、45、68、69、70、79)を形成する前記手段の一部となる磁気電機子(20、21、44、45、79)が設けられ、磁気回路は、前記レバー(19、35、67)の弾性変形によって生成される力とは反対の磁気回路によって生成される第1の磁力を用いて前記電機子を接触させることができる座を構成し、各磁気回路に結合されたコイル(10a、10b、11a、11b、71、72)が、選択的に励磁可能であり、かつ磁気回路の磁力とは反対の第2の磁力を生成することができ、このコイルに結合された電機子(20、21、44、45、79)が座に接触したときに、前記レバー(19、35、67)を傾斜させることによって、この電機子を解放し他方の電機子を座に接触させることを特徴とするデバイス。

IPC (4件)：

H01H 49/00 ,  H01L 49/00 ,  H05K 13/04 ,  H01L 21/302

FI (4件)：

H01H 49/00 J ,  H01L 49/00 Z ,  H05K 13/04 Z ,  H01L 21/302 Z