荷電粒子ビーム光学装置、荷電粒子ビーム光学装置の絞り、荷電粒子ビーム制御方法、及びこれらを用いた物体検査装置ならびに物体検査方法、及び半導体素子

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：志賀正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-392552
公開番号（公開出願番号）：特開2003-197140
出願日： 2001年12月25日
公開日（公表日）： 2003年07月11日
要約：

【要約】【課題】像面上における収差による荷電粒子ビームの拡がりを低減することができる荷電粒子ビーム光学装置を提供することを目的とする。【解決手段】物面OB上のX軸方向に延在した照明領域OFから放出される二次ビームを導いて像面IM上に物面OB上の照明領域OFの像IFを結像させる二次光学系20を有する二次コラム2を設け、このとき、二次ビームの軌道上に、照明領域OFが延在するX軸方向に直交するY軸方向に長軸を有する楕円形の開口形状を有する開口絞りASを設けて構成した。そして、照明領域OFが延在するX軸方向の領域OFの端部の一点A’から放出された二次子ビームが、像面IM上において、像IFが延在するX軸方向とこの方向に直交するY軸方向とに、それぞれ略等しい大きさの収差による拡がりδx及びδyを有するよう、開口形状の楕円形の長軸と短軸の比を設定した。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビーム光学系により導かれる荷電粒子ビームの軌道上に、前記荷電粒子ビームの一部を通過させる開口形状を有している荷電粒子ビーム光学装置において、前記開口形状は、楕円形に形成されていることを特徴とする荷電粒子ビーム光学装置。

IPC (8件)：

H01J 37/09 , G01B 15/00 , G01N 23/225 , G21K 1/02 , G21K 5/04 , H01J 37/12 , H01J 37/153 , H01L 21/66

FI (8件)：

H01J 37/09 A , G01B 15/00 B , G01N 23/225 , G21K 1/02 R , G21K 5/04 M , H01J 37/12 , H01J 37/153 Z , H01L 21/66 J

Fターム (43件)：

2F067AA45 , 2F067AA54 , 2F067BB04 , 2F067CC15 , 2F067EE00 , 2F067EE04 , 2F067HH06 , 2F067HH13 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067LL16 , 2F067NN03 , 2F067PP12 , 2F067RR35 , 2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001CA03 , 2G001DA01 , 2G001DA09 , 2G001EA05 , 2G001GA06 , 2G001GA09 , 2G001HA12 , 2G001HA13 , 2G001JA16 , 2G001KA01 , 2G001KA03 , 2G001KA20 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001PA11 , 2G001PA14 , 2G001PA15 , 2G001SA01 , 4M106AA01 , 4M106AA02 , 4M106BA02 , 4M106CA38 , 4M106DB11 , 5C033BB01 , 5C033CC01 , 5C033JJ01 , 5C033JJ07

引用特許：

出願人引用 (2件)

荷電粒子ビーム顕微鏡、欠陥検査装置及び半導体デバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-049305 出願人：株式会社ニコン
特開平4-068519

審査官引用 (3件)

荷電粒子ビーム顕微鏡、欠陥検査装置及び半導体デバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-049305 出願人：株式会社ニコン
特開平4-068519
特開平4-068519

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