特許
J-GLOBAL ID：200903011661424343
可視発光するシリコンの製造方法およびそれを用いた素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上島 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-065735
公開番号（公開出願番号）：特開平7-247199
出願日： 1994年03月09日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：
【要約】【目的】ポーラス・シリコンと同等な可視発光が可能であるとともに、素子の機能に応じた膜厚や形状などのサイズの制御を容易に行うことができるようにした可視発光するシリコンの製造方法およびそれを用いた素子の製造方法を提供することを目的とする。【構成】水素原子を含有しないアモルファス・シリコンを作製し、このアモルファス・シリコンを結晶化して超微結晶シリコンを作製し、さらに上記のようにして作製された超微結晶シリコンを光照射の下にフッ酸を含有する混合液中に浸漬してエッチングすることによって、可視発光するシリコン(可視発光微結晶シリコン)を製造する。
請求項（抜粋）：
水素原子を含有しないアモルファス・シリコンを作製する第一の工程と、前記第一の工程によって作製されたアモルファス・シリコンを結晶化して超微結晶シリコンを作製する第二の工程と、前記第二の工程によって作製された超微結晶シリコンを、光照射の下にフッ酸を含有する混合液中でエッチングして可視発光微結晶シリコンを作製する第三の工程とを有することを特徴とする可視発光するシリコンの製造方法。
IPC (3件)：
C30B 29/06 504
, C30B 28/02
, H01L 33/00
