特許

J-GLOBAL ID：200903011663240894

フッ素含有ポリイミド系気体分離膜とその製造方法及びモジュール

発明者： 蜂須賀 久雄 ,  前田 正利 ,  池田 健一
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (1件)： 池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-149241
公開番号（公開出願番号）：特開平9-000898
出願日： 1995年06月15日
公開日（公表日）： 1997年01月07日
要約：

【要約】【目的】 広い膜面積において均質であり、ピンホール等の欠陥もなく、高い透過流束と分離係数αを有する含フッ素ポリイミド系ガス分離膜を提供する。【構成】 少なくとも3個のフッ素原子有する4価の有機基とオルト位またはメタ位に配置される2価の有機基を有するポリイミド樹脂を誘電率が30以下で双極子モーメントが3.0D以下である例えばジエチレングリコールジメチルエーテル等を含む有機溶媒に溶解し、次いで前記フッ素含有ポリイミド樹脂を溶解しないが、前記有機溶媒と相溶性を有する例えば水等の溶剤中に浸漬して脱溶媒することにより、非対称気体分離膜を形成する。フッ素含有ポリイミド樹脂層3はスキン層1(厚さL1 :約40nm)とスポンジ層2(厚さL2 :約30μm)で形成されている。平膜の場合、スポンジ層2の下には不織布等の気体透過性支持体4が存在する。

請求項（抜粋）：

少なくとも3個のフッ素原子有する4価の有機基とオルト位またはメタ位に配置される2価の有機基を有するポリイミド樹脂からなるスポンジ層とその表層のスキン層とを少なくとも備えた膜面積0.5m2 以上の気体分離膜であって、前記スキン層の平均厚さは1〜100nmの範囲にあり、CO2 ガスの透過速度が0.01〜50Nm3 /m2 /h/atmの範囲、CO2 /メタンの分離係数αが2〜60の範囲であることを特徴とするフッ素含有ポリイミド系気体分離膜。

IPC (4件)：

B01D 71/64 ,  B01D 69/04 ,  B01D 69/08 ,  B01D 69/12

FI (4件)：

B01D 71/64 ,  B01D 69/04 ,  B01D 69/08 ,  B01D 69/12