特許
J-GLOBAL ID:200903011665776554

塗布装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松浦 憲三
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-538222
公開番号(公開出願番号):特表2009-528154
出願日: 2007年02月20日
公開日(公表日): 2009年08月06日
要約:
【課題】塗布ロッドや塗布ローラによりウェブやシート状体に塗布液を塗布する方式において、高速塗布での等ピッチ状のスジを解消できる塗布装置を提供する。【解決手段】塗布液を、塗布ロッドを介して連続走行する支持体上に塗布する塗布装置に関する。塗布ロッド12Cは円柱状体であり、円柱表面の軸方向に沿って幅P1の凸部と幅P2の凹部とが交互に形成され、これにより一定ピッチP=P1+P2の凹凸が連続して形成されている。この凸部の断面形状が山型であり、山型の頂部Tより3μm低くなった位置にある右端部Rと左端部Lの間に形成される平坦部分の幅P3は0.55P以上である。【選択図】図2A
請求項(抜粋):
塗布液を、塗布ロッドを介して連続走行する支持体上に塗布する塗布装置において、 前記塗布ロッドは円柱状体であり、円柱表面の軸方向に沿って幅P1の凸部と幅P2の凹部とが交互に形成され、これにより一定ピッチP=P1+P2の凹凸が連続して形成されており、前記凸部の断面形状が山型であり、該山型の頂部より3μm低い位置にある両端部の間に形成される平坦部分の幅P3が0.55P以上となっている塗布装置。
IPC (1件):
B05C 1/08
FI (1件):
B05C1/08
Fターム (7件):
4F040AA22 ,  4F040AB04 ,  4F040AC01 ,  4F040BA25 ,  4F040CB01 ,  4F040CB06 ,  4F040CB33
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)

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