特許
J-GLOBAL ID：200903011674092242
位置検出方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-053263
公開番号（公開出願番号）：特開平7-234107
出願日： 1994年02月24日
公開日（公表日）： 1995年09月05日
要約：
【要約】【目的】本発明は位置検出方法において、パターンマツチングにおける位置検出精度を従来に比して一段と向上させる。【構成】回転対称な像を撮像して得られた第1の基準画像とこれを所定角だけ回転して得られた第2の基準画像とに基づいてパターンマツチング処理する。そして第1の基準画像及び第2の基準画像のそれぞれに一致した像が得られる被処理画像内の2つの代表点の位置に基づいて像の位置を検出する。これによりパターンマツチングの際に精度不良の原因となつていた映像信号の輝度差やパターンエツジ形状の相違等の影響を一段と低減させることができる。この結果、位置検出精度は従来に比して一段と向上する。
請求項（抜粋）：
所定のパターンを含む画像を基準画像として登録し、被処理画像から前記基準画像に対応する画像を検出し、該対応する画像における前記基準画像内の任意の代表点の位置に基づいて前記パターンに対応する前記被処理画像内の像の位置を検出する位置検出方法において、前記パターンとして、該パターンの中心に対して回転対称な像を第1の基準画像として登録する工程と、前記第1の基準画像の前記代表点と前記パターンとを、該パターンの中心に対して所定角度だけ回転して得られる画像を第2の基準画像として登録する工程と、前記被処理画像から前記第1の基準画像を検出して得られる前記代表点の位置を第1の位置とする工程と、前記被処理画像から前記第2の基準画像を検出して得られる前記代表点の位置を第2の位置とする工程と、前記第1及び第2の位置に基づいて前記像の位置を検出する工程とを具えることを特徴とする位置検出方法。
IPC (3件)：
G01B 11/00
, G03F 9/00
, H01L 21/027
