特許

J-GLOBAL ID：200903011675775190

親水性高分子修飾カーボンナノチューブ膜

発明者： 平田 光男 ,  藤井 孝宣 ,  小川 紀子
出願人/特許権者： 学校法人日本大学
代理人 (11件)： 特許業務法人アルガ特許事務所 ,  有賀 三幸 ,  高野 登志雄 ,  中嶋 俊夫 ,  村田 正樹 ,  山本 博人 ,  的場 ひろみ ,  守屋 嘉高 ,  大野 詩木 ,  松田 政広 ,  野中 信宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-317225
公開番号（公開出願番号）：特開2008-127675
出願日： 2006年11月24日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：

【課題】半導体材料として使用可能な膜厚を有するカーボンナノチューブ膜を形成する方法及び当該カーボンナノチューブ膜を提供する。【解決手段】カルボキシル基又はアミノ基含有ポリマーで表面修飾されたカーボンナノチューブの水分散液に電極を浸漬して電圧を印加することを特徴とする、カルボキシル基又はアミノ基含有ポリマーで表面修飾されたカーボンナノチューブ膜の製造法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

カルボキシル基又はアミノ基含有ポリマーで表面修飾されたカーボンナノチューブの水分散液に電極を浸漬して電圧を印加することを特徴とする、カルボキシル基又はアミノ基含有ポリマーで表面修飾されたカーボンナノチューブ膜の製造法。

IPC (3件)：

C25D 13/02 ,  C01B 31/02 ,  B82B 3/00

FI (3件)：

C25D13/02 Z ,  C01B31/02 101F ,  B82B3/00

Fターム (13件)：

4G146AA11 ,  4G146AA15 ,  4G146AB06 ,  4G146AB07 ,  4G146AC03B ,  4G146AD22 ,  4G146AD30 ,  4G146BA04 ,  4G146BC18 ,  4G146CB22 ,  4G146CB23 ,  4G146CB35 ,  4G146CB36

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ナノ構造材料のための堆積方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2003-573718   出願人：ザユニバーシティオブノースカロライナアットチャペルヒル, シンテック,インコーポレイテッド