特許
J-GLOBAL ID:200903011676745588
微細凹凸構造の形成方法及び当該凹凸を有する部材
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
藤元 亮輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-257471
公開番号(公開出願番号):特開2003-066203
出願日: 2001年08月28日
公開日(公表日): 2003年03月05日
要約:
【要約】【課題】 反射防止、撥水、放熱、接着などの用途のために微細な凹凸を安価に形成し、特に、反射防止効果は波長依存性のない凹凸を形成する方法、当該凹凸を有する部材を提供する。【解決手段】 基体上に微細な凹凸をランダムに形成する方法は、前記基体の表面に有機化合物の膜を形成するステップと、前記有機化合物の膜をエッチングするステップと有する。
請求項(抜粋):
基体上に微細な凹凸をランダムに形成する方法であって、前記基体の表面に有機化合物の膜を形成するステップと、前記有機化合物の膜をエッチングするステップと有する方法。
IPC (4件):
G02B 1/11
, G02B 1/10
, C23C 14/58
, C23C 16/56
FI (4件):
C23C 14/58 C
, C23C 16/56
, G02B 1/10 A
, G02B 1/10 Z
Fターム (30件):
2K009AA02
, 2K009BB01
, 2K009BB11
, 2K009CC21
, 2K009DD12
, 2K009DD17
, 2K009EE00
, 2K009FF03
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029BA12
, 4K029BA62
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA12
, 4K029EA01
, 4K029EA02
, 4K029FA05
, 4K029GA02
, 4K030BA14
, 4K030BA61
, 4K030CA06
, 4K030CA07
, 4K030DA02
, 4K030DA08
, 4K030FA01
, 4K030JA01
, 4K030JA13
, 4K030LA11
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