特許
J-GLOBAL ID:200903011676745588

微細凹凸構造の形成方法及び当該凹凸を有する部材

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤元 亮輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-257471
公開番号(公開出願番号):特開2003-066203
出願日: 2001年08月28日
公開日(公表日): 2003年03月05日
要約:
【要約】【課題】 反射防止、撥水、放熱、接着などの用途のために微細な凹凸を安価に形成し、特に、反射防止効果は波長依存性のない凹凸を形成する方法、当該凹凸を有する部材を提供する。【解決手段】 基体上に微細な凹凸をランダムに形成する方法は、前記基体の表面に有機化合物の膜を形成するステップと、前記有機化合物の膜をエッチングするステップと有する。
請求項(抜粋):
基体上に微細な凹凸をランダムに形成する方法であって、前記基体の表面に有機化合物の膜を形成するステップと、前記有機化合物の膜をエッチングするステップと有する方法。
IPC (4件):
G02B 1/11 ,  G02B 1/10 ,  C23C 14/58 ,  C23C 16/56
FI (4件):
C23C 14/58 C ,  C23C 16/56 ,  G02B 1/10 A ,  G02B 1/10 Z
Fターム (30件):
2K009AA02 ,  2K009BB01 ,  2K009BB11 ,  2K009CC21 ,  2K009DD12 ,  2K009DD17 ,  2K009EE00 ,  2K009FF03 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029BA12 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA12 ,  4K029EA01 ,  4K029EA02 ,  4K029FA05 ,  4K029GA02 ,  4K030BA14 ,  4K030BA61 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030DA02 ,  4K030DA08 ,  4K030FA01 ,  4K030JA01 ,  4K030JA13 ,  4K030LA11

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