リフロー炉

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-350761
公開番号（公開出願番号）：特開2004-181483
出願日： 2002年12月03日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：

【課題】従来のリフロー炉は、ガスシール装置が一般に使用されるプリント基板の最も高さの高い部品に合わせた位置で出入口に固定されていた。従って、高さの低い電子部品を搭載したプリント基板をリフローはんだ付けするときに、プリント基板とガスシール装置の間が広くあいて外部から空気が侵入し、リフロー炉内の酸素濃度を下げていた。【解決手段】本発明のリフロー炉は、出入口にガスシール装置が上下動可能に設置されており、プリント基板の高さに合わせて調整可能となっている。また上下動装置をモーター駆動にし、モーターをコンピューター制御することにより、各種のプリント基板に合わせた高さの調整が極めて容易にできる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

トンネル内にヒーターと冷却機が設置されているとともに、トンネルの出入口にガスシール装置が設置されたリフロー炉において、ガスシール装置には上下動装置が取り付けられていることを特徴とするリフロー炉。

IPC (3件)：

B23K1/008 , B23K31/02 , H05K3/34

FI (3件)：

B23K1/008 C , B23K31/02 310B , H05K3/34 507J

Fターム (7件)：

5E319AA03 , 5E319AC01 , 5E319CC33 , 5E319CC36 , 5E319CD35 , 5E319GG03 , 5E319GG15

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