特許
J-GLOBAL ID：200903011680313153
顕微分析用の試料作成法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田中 隆秀 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-219881
公開番号（公開出願番号）：特開平10-062323
出願日： 1996年08月21日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：
【要約】【課 題】 光ビームが透過する試料をイオン研磨する際、光ビームおよび光センサを用いてイオンビームの照射を自動的に停止可能にすること。【解決手段】 光ビームLが透過する薄い試料Sの一面に孔開き状態検出用の光ビームLを遮断する厚さの金属膜を形成する金属膜形成工程と、前記一面に金属膜の形成された薄い試料Sを挟んで孔開き状態検出用の光ビームLを出射する光ビーム出射装置1および光センサ16を配置した状態で試料Sの他面をイオンミリング装置13を用いてイオンミリングするイオンミリング工程と、前記光センサ16が孔開き状態検出用の光ビームLを検出した時点でイオンミリング装置13を停止させるイオンミリング停止工程と、前記イオンミリングした試料Sの前記一面に形成された金属膜を除去する金属膜除去工程とから構成される顕微分析用の試料作成法。
請求項（抜粋）：
下記の要件を備えた顕微分析用の試料作成法、(A01)光ビームが透過する薄い試料の一面に孔開き状態検出用の光ビームを遮断する厚さの金属膜を形成する金属膜形成工程、(A02)前記一面に金属膜の形成された薄い試料を挟んで孔開き状態検出用の光ビームを出射する光ビーム出射装置および光センサを配置した状態で、試料の他面をイオンミリング装置を用いてイオンミリングするイオンミリング工程、(A03)前記光センサが孔開き状態検出用の光ビームを検出した時点でイオンミリング装置を停止させるイオンミリング停止工程。(A04)前記イオンミリングした試料の前記一面に形成された金属膜を除去する金属膜除去工程。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01N 1/28 G
, G01N 1/32 B
, G01N 1/28 F
