特許

J-GLOBAL ID：200903011683010828

露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 奥村 正彦
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-179549
公開番号（公開出願番号）：特開2001-358055
出願日： 2000年06月15日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【課題】 スループットの更なる向上に寄与する露光装置を提供する。【解決手段】 レチクルステージRSTが、レチクルRを吸着する静電チャック35を有している。また、レチクルステージRSTを収納するチャンバ15が設けられ、該チャンバ15内部の雰囲気の湿度が湿度調整装置60によりに所定値以下に調整されている。このため、レチクルステージRSTを高加速度で駆動するときにも、静電チャックの吸着力によりレチクルRを安定して保持することができる。走査露光方式により縮小投影露光を行う場合は、レチクルステージRSTに大きな加速度が要求されるので、走査露光時のレチクルステージRSTとウエハステージWSTの高加速度化、高速化が可能となり、走査露光時間の短縮によりスループットの向上が可能である。

請求項（抜粋）：

第1物体に形成されたパターンを第2物体上に転写する露光装置であって、前記第1物体を保持する第1ステージと;前記第2物体を保持する第2ステージとを備え、前記第1ステージ及び前記第2ステージの内の少なくとも一方の特定ステージが、電極に対する直流電圧の印加により生じる静電気を利用して前記保持対象の物体を吸着する静電チャックを有し、前記特定ステージの近傍の雰囲気の湿度を調整する湿度調整装置を備える露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 F ,  H01L 21/30 503 A ,  H01L 21/30 518

Fターム (8件)：

5F046AA22 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC08 ,  5F046CC09 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03