特許

J-GLOBAL ID：200903011688052162

フォトマスクおよびこれを用いた露光方法

発明者： 福本 敦 ,  菅沼 洋
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-201104
公開番号（公開出願番号）：特開平9-050117
出願日： 1995年08月07日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】 従来の斜方照明法よりも照明効率に優れ、位相シフト法よりもマスク製作の容易なフォトリソグラフィを実現する。【解決手段】 ガラス基板2の一方の主面に遮光膜パターン3、他方の主面に回折格子5を形成したフォトマスクR1を通常のステッパにセットし、回折格子側から照明する。照明光は回折格子5で回折され、たとえば-1次回折光がガラス基板1中を伝搬して遮光膜パターン3に斜めに入射する。これで、斜方照明法と同じ照明が行われたことになる。開口部4から出射する直進成分(0次光)がステッパの光軸に対して傾くため、投影レンズ7に取り込まれる光は0次光と+1次回折光のみとなり、解像度を向上させながら焦点深度DOFを拡大することができる。回折格子5のパターン最適化により、解像度のパターン依存性が解消できる。複雑な瞳操作は一切不要。

請求項（抜粋）：

透明基板の第1主面に所定の開口を有する遮光膜パターン、該第1主面の裏面に相当する第2主面に回折手段をそれぞれ有し、該回折手段による回折光を該開口へ斜め入射させるようになされたフォトマスク。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/14 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 P