特許
J-GLOBAL ID：200903011693974442
膜形成用組成物、膜の形成方法およびシリカ系膜
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-229581
公開番号（公開出願番号）：特開2003-041191
出願日： 2001年07月30日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：
【要約】【課題】 組成物の保存安定性に優れ、焼成条件による比誘電率の差異が小さいシリカ系膜が形成可能な膜形成用組成物を得る。【解決手段】 (A)アルコキシシラン化合物をアルカリ触媒と水の存在下で加水分解、縮合して得られる加水分解縮合物、(B)(A)成分100重量部(完全加水分解縮合物換算)に対して0.005〜0.5重量部の、アンモニウム塩および第1〜4級アルキルアンモニウム塩からなる群より選ばれる少なくとも1種ならびに(C)有機溶剤を含有し、かつpHが2〜4であることを特徴とする膜形成用組成物。
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(1)で表される化合物、Ra Si(OR1 )4-a ・・・・・(1)(式中、Rは水素原子、フッ素原子または1価の有機基、R1 は1価の有機基、aは1〜2の整数を示す。)下記一般式(2)で表される化合物およびSi(OR2 )4 ・・・・・(2)(式中、R2 は1価の有機基を示す。)下記一般式(3)で表される化合物 R3b(R4O)3-bSi-(R7)d-Si(OR5)3-cR6c ・・・・(3)〔式中、R3 〜R6 は同一または異なり、それぞれ1価の有機基、b〜cは同一または異なり、0〜2の整数、R7 は酸素原子、フェニレン基または-(CH2)n -で表される基(ここで、nは1〜6の整数である)、dは0または1を示す。〕の群から選ばれた少なくとも1種の化合物をアルカリ触媒と水の存在下で加水分解、縮合して得られる加水分解縮合物、(B)(A)成分100重量部(完全加水分解縮合物換算)に対して0.005〜0.5重量部の、アンモニウム塩および第1〜4級アルキルアンモニウム塩からなる群より選ばれる少なくとも1種ならびに(C)有機溶剤を含有し、かつpHが2〜4であることを特徴とする膜形成用組成物。
IPC (4件)：
C09D183/02
, C09D 5/25
, C09D183/04
, C09D183/14
C09D183/02
, C09D 5/25
, C09D183/04
, C09D183/14
4J038DL021
, 4J038DL031
, 4J038DL071
, 4J038DL161
, 4J038HA176
, 4J038HA316
, 4J038JA16
, 4J038JA30
, 4J038JA53
, 4J038JB01
, 4J038JB11
, 4J038JB12
, 4J038KA04
, 4J038KA06
, 4J038LA03
, 4J038NA21
, 4J038NA26
, 4J038PA19
, 4J038PB09
