特許

J-GLOBAL ID：200903011715468112

位置検出方法及びそれを用いた露光装置

発明者： 大津 芳明 ,  斉藤 謙治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-352294
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166695
出願日： 1991年12月13日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：

【要約】【目的】 アライメントヘッドからの光ビームとアライメントパターンとの位置関係を高精度に求めることができる位置検出方法及びそれを用いた露光装置を得ること。【構成】 基板に光ビームを照射し、基板からの光ビームを受光する光学ヘッドの基板に対する予め決めた所定方向に関する位置を検出する際、基板上に、基板上での光ビームの所定方向の幅よりも小さな幅を備える回折格子パターンを形成し、光ビームと回折格子パターンの所定方向に関する位置ずれに応じて回折格子パターンから生じる所定次数の回折光の光学ヘッド内のセンサーへの入射位置が変化し、光ビームを回折格子パターンに照射することにより所定次数の回折光を発生させ、所定次数の回折光を光学ヘッド内のセンサーに入射させ、センサー上への所定次数の回折光の入射位置を検出し、検出した入射位置の予め決めた位置からのずれに基づいて光学ヘッドの位置を検出すること。

請求項（抜粋）：

基板に光ビームを照射し、該基板からの該光ビームを受光する光学ヘッドの前記基板に対する予め決めた方向に関する位置を検出する位置検出方法において、前記基板上に、前記基板上での前記光ビームの前記方向に関する幅よりも小さな前記方向に関する幅を備える回折格子パターンを形成することにより、前記光ビームと前記回折格子パターンの前記方向に関する位置ずれに応じて前記回折格子パターンから生じる所定次数の回折光の前記光学ヘッド内のセンサーへの入射位置が変化するようにし、前記光ビームを前記回折格子パターンに照射することにより前記所定次数の回折光を発生させ、該所定次数の回折光を前記光学ヘッド内のセンサーに入射させ、該センサー上への前記所定次数の回折光の入射位置を検出し、該検出した入射位置の予め決めた位置からのずれに基づいて前記光学ヘッドの位置を検出することを特徴とする位置検出方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 5/18 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 311 H ,  H01L 21/30 311 M