特許

J-GLOBAL ID：200903011718826222

基板の洗浄方法および洗浄装置

発明者： 林 喜宏 ,  富高 奉文
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-115501
公開番号（公開出願番号）：特開平7-321082
出願日： 1994年05月27日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：

【要約】【目的】 層間絶縁膜の平坦化ポリッシング後、基板上に残留する研磨剤粒子を除去するための基板洗浄方法と洗浄装置を提供する。【構成】 基板保持盤2を電解イオン水13と窒素ガス27との同時吹き付けにより洗浄した後、基板1の裏面の外周部を保持して基板1を回転させ、かつ基板裏面に水流による保護液膜を形成した状態で、回転ブラシ28による基板1の粗洗浄工程を行い、さらにイオン水13と窒素ガス27を回転している基板に同時に吹き付け、基板表面に残留するシリカ粒子を円心力で外部にはねとばす。

請求項（抜粋）：

回転している基板に、洗浄液とガスを同時に吹き付ける工程を有する基板の洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-185032
  
• 特開平3-242919
  
• 特開昭62-122131