特許
J-GLOBAL ID：200903011719864462
研磨装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-347129
公開番号（公開出願番号）：特開平11-156712
出願日： 1997年12月02日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：
【要約】【課題】 高度の平坦化と清浄化をコンパクトな装置で効率良く行うことができる研磨装置を提供する。【解決手段】 円形の被研磨材Wと研磨テーブルとをそれぞれ回転させながら、被研磨材の被研磨面と研磨テーブルの研磨面とを互いに押し付けて研磨を行なう研磨装置において、研磨面の半径が被研磨面の直径より大きく設定された1次研磨テーブル38と、研磨面の半径(R)が前記被研磨面の直径(2r)より小さくかつその半径(r)より大きく設定された2次研磨テーブル42とを有する。
請求項（抜粋）：
円形の被研磨材と研磨テーブルとをそれぞれ回転させながら、被研磨材の被研磨面と研磨テーブルの研磨面とを互いに押し付けて研磨を行なう研磨装置において、研磨面の半径が被研磨面の直径より大きく設定された1次研磨テーブルと、研磨面の半径が被研磨面の直径より小さくかつその半径より大きく設定された2次研磨テーブルとを有することを特徴とする研磨装置。
IPC (2件)：
B24B 37/04
, H01L 21/304 621
B24B 37/04 Z
, H01L 21/304 621 D
