特許
J-GLOBAL ID：200903011720927664
水素分離精製装置
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
清水 千春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-106055
公開番号（公開出願番号）：特開2005-288290
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：
【課題】組立工数の短縮化、水素透過膜の異種材料の使用可能化、水素含有ガスの水素富化ガスへの混入防止を図ることにある。【解決手段】 第1の支持部材3と第2の支持部材4とで、水素透過膜1およびガスケット2を圧縮荷重Pを付加した状態に保持し、ガスケットのうち第1のガスケット21には、開口部2Aに水素含有ガスを導き入れる原料ガス導入孔21aを設け、かつ水素含有ガスのうち水素透過膜を透過せずに残った残ガスを流出する残ガス流出孔21bを設け、ガスケットのうち第2のガスケット22には、水素含有ガスのうち水素透過膜を透過した後のガスを流出する精製ガス流出孔22aを設けた構成になっている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
水素の選択的透過性を有する水素透過膜と、この水素透過膜における膜面の周縁部に密接し、内方に開口部を有する板状のシール部材とを交互に層状に配置し、その層状に配置される方向である軸方向の一方の端に位置する上記水素透過膜に上記シール部材を介して設置される第1の支持部材と、上記軸方向の他方の端に位置する上記水素透過膜に上記シール部材を介して設置される第2の支持部材とで、上記複数の水素透過膜およびシール部材を圧縮荷重を付加した状態に保持してなり、
上記シール部材のうち上記軸方向に一つおきに配置された第1のシール部材には、当該第1のシール部材の内方に水素含有ガスを導き入れるための原料ガス導入孔が設けられているとともに、この原料ガス導入孔によって導入された上記水素含有ガスのうち上記水素透過膜を透過せずに残った残ガスを流出するための残ガス流出孔が設けられており、
上記シール部材のうち上記第1のシール部材以外の第2のシール部材には、上記原料ガス導入孔によって導入された上記水素含有ガスのうち上記水素透過膜を透過した後のガスを流出する精製ガス流出孔が設けられていることを特徴とする水素分離精製装置。
IPC (6件)：
B01D53/22
, B01D63/00
, B01D63/08
, B01D69/12
, B01D71/02
, B01D71/06
B01D53/22
, B01D63/00 500
, B01D63/08
, B01D69/12
, B01D71/02 500
, B01D71/06
4D006GA41
, 4D006HA43
, 4D006JA03Z
, 4D006JA04Z
, 4D006JA07A
, 4D006JA08C
, 4D006KA12
, 4D006KA15
, 4D006KA31
, 4D006KB30
, 4D006MA03
, 4D006MA08
, 4D006MA09
, 4D006MB04
, 4D006MB15
, 4D006MC02X
, 4D006MC03X
, 4D006MC05X
, 4D006MC09X
, 4D006PA01
, 4D006PA02
, 4D006PB18
, 4D006PB66
