特許

J-GLOBAL ID：200903011721690935

マイクロ波プラズマ処理装置

発明者： 河村 勝文 ,  川浦 廣
出願人/特許権者： キヤノン株式会社 ,  キヤノン販売株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-342007
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196475
出願日： 1992年12月22日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：

【要約】【目的】 プラズマによる電気的なダメージや汚染が被処理物に生じることがなく、均一性の高い処理が被処理物に行われるマイクロ波プラズマ処理装置を実現すること。【構成】 導波管にて伝送されるマイクロ波を用いて処理室内にプラズマを発生させるマイクロ波プラズマ処理装置において、前記導波管と前記処理室との間に、導波管にて伝送されたマイクロ波を分配して処理室へ供給するためのマイクロ波分配用空胴共振部が設けられている。

請求項（抜粋）：

導波管にて伝送されるマイクロ波を用いて処理室内にプラズマを発生させるマイクロ波プラズマ処理装置において、前記導波管と前記処理室との間に、導波管にて伝送されたマイクロ波を分配して処理室へ供給するためのマイクロ波分配用空胴共振部が設けられていることを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/31 ,  C23C 14/34 ,  C23F 4/00 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/302 ,  H05H 1/46

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平1-114038