特許
J-GLOBAL ID:200903011731445041
ハニカム触媒担体
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
浜田 治雄
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-515450
公開番号(公開出願番号):特表平11-514291
出願日: 1996年09月24日
公開日(公表日): 1999年12月07日
要約:
【要約】主としてSiO2よりなるハニカムX線非晶質触媒担体を開示し、該触媒担体は、焼成して次いで酸浸出した、約0.1〜1.2ml/gの孔容積及び約20〜400m2/gの比表面積(BETによる)を有するフィロシリケート並びに約10〜50重量%の非晶質ケイ酸又は非晶質アルミニウムシリケートの少なくとも1種からなり、約0.1〜5mmの壁厚を有しかつ壁厚と壁間隔との比が1:5〜5:1である。触媒担体を、10m2/g以上、好ましくは40〜500m2/gの比表面積を有する微細に粉砕したフィロシリケートを液体、好ましくは水でペースト状にし、前記ペーストをハニカム体に押出し、これを乾燥してアルミニウムシリケートの対応する酸化ケイ素の焼結温度未満である約50〜200°Cの温度で焼成し、次いで焼成体を酸処理することにより調製する。触媒担体は、元素周期表の1A、1B、2A、2B、6A及び/又は8族の触媒作用を有する元素の少なくとも1種を包含する。触媒は、気相におけるオレフィン、酸及び酸素からの不飽和エステルの調製、有機物を包含する排気の精製並びに芳香族化合物のアルキル化、特にベンゼンとエチレンからのエチルベンゼンの調製に使用することができる。
請求項(抜粋):
主としてSiO2よりなるハニカムX線非晶質触媒担体であって、該触媒担体は、焼成して次いで酸浸出した、約0.1〜1.2ml/gの孔容積及び約20〜400m2/gの比表面積(BETによる)を有するフィロシリケート並びに約10〜50重量%の非晶質ケイ酸又は非晶質アルミニウムシリケートの少なくとも1種からなり、約0.1〜5mmの壁厚を有しかつ壁厚と壁間隔との比が1:5〜5:1であることを特徴とするハニカムX線非晶質触媒担体。
IPC (6件):
B01J 21/08
, B01D 53/86 ZAB
, B01J 23/66
, B01J 35/04 301
, C07C 67/055
, C07C 69/15
FI (6件):
B01J 21/08 Z
, B01J 23/66 Z
, B01J 35/04 301 P
, C07C 67/055
, C07C 69/15
, B01D 53/36 ZAB C
前のページに戻る