特許

J-GLOBAL ID：200903011733515373

荷電粒子ビームを用いた自動基板検査の装置及び方法

発明者： ダン・マイスバーガー ,  アラン・ディー・ブローディー ,  アニル・エー・デサイ ,  デニス・ジー・エムゲ ,  ツオン - ウエイ・チェン ,  リチャード・シモンズ ,  デーブ・イー・エー・スミス ,  エイプリル・ダッタ ,  ジェイ・カークウッド・エイチ・ラフ ,  レスリー・エー・ホンフィ ,  ヘンリー・ピアス - パーシ ,  ジョン・マクマートリー ,  エリック・マンロー
出願人/特許権者： ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-124458
公開番号（公開出願番号）：特開平6-188294
出願日： 1993年05月26日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：

【要約】【目的】汚染物質の擾乱を防止し、欠陥の検出及び分類を高速で行い、汚れを洗浄することのできる、荷電粒子を用いた安価な自動基板検査装置及び方法を提供すること。【構成】基板の載置及び位置合わせをする手段又は工程と、基板を含むチャンバの排気及び再加圧により真空制御する手段又は工程と、基板表面に荷電粒子ビームを照射して基板表面の走査をする手段又は工程と、基板表面から生じる荷電粒子を検出する手段又は工程と、荷電粒子ビームを基板表面に対して移動させる手段又は工程と、主にプラズマにより有機汚染物質を酸化させる手段又は工程と、プラズマを励起させる無線周波数を発生する手段又は工程と、選択した領域の圧力を調整してプラズマを形成する手段又は工程とを有している。

請求項（抜粋）：

基板の表面に荷電粒子ビームを供給して基板の表面を走査する荷電粒子ビーム生成手段と、基板の上面或いは底面から流出する二次荷電粒子、後方散乱荷電粒子、透過荷電粒子の3種類の荷電粒子のうちの少なくとも一つの荷電粒子を検出する検出器手段と荷電粒子ビーム及び基板の両者を相対的に移動させる手段とを具備することを特徴とする、荷電粒子ビームを用いた自動基板検査の装置。

IPC (2件)：

H01L 21/66 ,  G01R 31/302

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭64-026131
  
• 特開昭64-026131
  
• 特開昭64-026131