基板洗浄方法およびその装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉谷勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-013912
公開番号（公開出願番号）：特開2000-216126
出願日： 1999年01月22日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【課題】超音波ノズルを用いた基板の超音波洗浄処理において、洗浄能力を十分に高めることができる基板洗浄方法およびその装置を提供する。【解決手段】超音波が付与された洗浄液を超音波ノズル5a,5bから同時に吐出し、各洗浄液を基板Wの被処理面上の同じ位置に当てて基板を洗浄処理することにより、超音波の振幅を増大させてパーティクルの洗浄性能を高める。音圧センサ17で検出された超音波の音圧レベルを参照しながら位置調整機構8を操作して超音波ノズル5a,5bの取付け位置を調整することにより、合成された超音波の振幅が最大にまで増大し、パーティクルの洗浄性能が一層向上する。

請求項（抜粋）：

超音波が付与された洗浄液を複数個の超音波ノズルから同時に吐出し、各洗浄液を基板の被処理面上の同じ位置に当てて基板を洗浄処理することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 643 , H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 643 D , H01L 21/304 643 C

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