特許
J-GLOBAL ID：200903011739562454
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中井 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-045653
公開番号（公開出願番号）：特開平6-236799
出願日： 1993年02月10日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：
【要約】【目的】処理面の面積が大きい被処理物にプラズマを均一に照射できるようにする。【構成】プラズマ室18の側壁部に細長い窓部18bを設け、窓部18bの内側に被処理物20を配置する。方形導波管16のE面16aに管軸方向にのびるスリット16bを形成する。スリット16bの長手方向と窓部18bの長手方向とを一致させた状態で、方形導波管16をプラズマ室18に取付け、スリット16bと窓部18bとを結合する。スリット16bの長手方向に沿って傾斜した状態で方形導波管16のE面に対向する1つの金属板を方形導波管16内に配置する。方形導波管のスリット16bとプラズマ室の窓部18bとの結合部は、石英ガラス板19により真空封じする。
請求項（抜粋）：
側壁部に細長い窓部を有し、該窓部の内側に被処理物が配置されるプラズマ室と、管軸方向に伸びるスリットをE面に有し、管軸方向を前記プラズマ室の窓部の長手方向に一致させた状態で配置されて前記スリットが前記窓部に結合されたプラズマ室結合用方形導波管と、前記方形導波管の一端から供給されるマイクロ波が前記スリットを通過するマイクロ波の電力を該スリットの長手方向に沿ってほぼ均一にするように、前記方形導波管内に配置されて前記スリットの長手方向に沿って傾斜した状態で前記方形導波管のE面に対向配置される1つの金属板と、前記方形導波管にマイクロ波を供給するマイクロ波電源とを具備し、前記方形導波管のスリットと前記プラズマ室の窓部との結合部は、マイクロ波を吸収しない物質により真空封じされているプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
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