特許
J-GLOBAL ID：200903011742747066
電子線描画装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-145402
公開番号（公開出願番号）：特開平5-343306
出願日： 1992年06月05日
公開日（公表日）： 1993年12月24日
要約：
【要約】【目的】ステージを連続移動させて電子ビームによりレジストにICパターン等を描画する装置の電子ビーム・ドリフトおよび鏡筒のメカニカル・ドリフトを補正すべく、実時間でのドリフト補正機能を持つ演算回路を提供する。【構成】ドリフト補正のための回路23は、線形演算用時間軸発生器および乗算器27、オフセット加算器等で構成し、追従コントローラ5の内部の追従量演算回路22の後段に設ける。【効果】ステージ位置データに電子ビーム・ドリフトおよび鏡筒のメカニカル・ドリフトの補正を施すことにより、電子ビーム照射時点でのステージ位置に対するビーム偏向の位置ずれがなくなり、高速で高精度な描画装置が実現できる。
請求項（抜粋）：
計算機により制御され、所定形状の電子ビームによりステージ上の試料面上に所望のパターンを描画する電子線描画装置において、前記電子ビームの位置ドリフトを補正すべく、予め求めた電子ビームのドリフト・データから描画時点のドリフト値を予測演算し、前記予測演算結果に基づいて前記電子ビームの照射位置と前記ステージの描画位置の関係が相対的に一致するように前記電子ビームの偏向系を制御する手段を備えたことを特徴とする電子線描画装置。
引用特許：
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