特許
J-GLOBAL ID:200903011754356186

階調画像作成用閾値配列決定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 千葉 剛宏 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-177333
公開番号(公開出願番号):特開2002-368995
出願日: 2001年06月12日
公開日(公表日): 2002年12月20日
要約:
【要約】【課題】閾値を用いて階調再現を行う画像出力装置において、全ての階調で低周波成分を発生することのない閾値配列を決定する。【解決手段】ある階調までの閾値Tが決まっている閾値配列36Mにより網点画像データHを発生し、次に、黒化すべき候補画素を決定する。次に、この網点画像データHに対して画像出力装置の出力画像に対応する濃度のシミュレーションを行った濃度画像データHdから低周波成分抽出部45により低周波成分データLを抽出する。さらに、抽出した低周波成分データLから、特定周波数成分分解部70により、低周波成分を強める特定周波数成分データBに分解し、この特定周波数成分を強める黒化候補画素を除外して候補画素を絞る。このようにして決定した黒化候補画素位置を、次階調の閾値の配置位置に決定することで、低周波成分の低減可能な閾値配列36Mを作成することができる。
請求項(抜粋):
閾値配列中、ある階調までの閾値の配置位置が決定しているときに、次階調の同値1つ以上の閾値の配置位置を決定する際、前記次階調の同値1つ以上の閾値の配置位置の候補位置を1箇所以上決定するA過程と、前記候補位置中、次階調の閾値の配置位置を決定するB過程とを有し、前記B過程は、前記ある階調までの閾値の配置位置が決定している閾値配列に基づいて得られる画像データの特定周波数成分を求める第1の過程と、前記1つ以上の箇所の各候補位置における前記特定周波数成分の強度を求める第2の過程と、求めた特定周波数成分の強度の弱い候補位置を前記次階調の閾値の配置位置として決定する第3の過程とを含み、前記第1の過程から前記第3の過程を前記次階調の同値1つ以上の閾値の全ての配置位置が決定するまで繰り返し行うことを特徴とする階調画像作成用閾値配列決定方法。
IPC (3件):
H04N 1/40 ,  G06T 5/00 200 ,  H04N 1/52
FI (3件):
G06T 5/00 200 A ,  H04N 1/40 103 Z ,  H04N 1/46 B
Fターム (26件):
5B057AA11 ,  5B057CA01 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CB01 ,  5B057CB07 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CC01 ,  5B057CE13 ,  5C077LL03 ,  5C077MP01 ,  5C077MP08 ,  5C077NN04 ,  5C077NN07 ,  5C077PP49 ,  5C077PQ20 ,  5C077RR02 ,  5C077RR11 ,  5C077TT08 ,  5C079HB03 ,  5C079LA34 ,  5C079LC14 ,  5C079NA02 ,  5C079PA07
引用特許:
審査官引用 (2件)

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